セミナー・講習会

プリント基板設計技術

日付2026年07月09日(木)~7月10日(金)
時間10:00〜16:45
開催場所高度ポリテクセンター
定員数14名
内容
    1. ノイズ発生のメカニズム
    2. 基板設計段階での対策が重要な理由
    3. ツールを使った効果的・効率的なノイズ対策
    4. EMIルールチェックを使ったノイズ原因個所の検出と対策
    5. 共振のメカニズムと対策方法
    6. 導入事例、効果
    7. 基板設計の修正
    8. まとめ 

 

セミナー内容の一部にCADLUSの操作説明(2h程度)が含まれます。

会場高度ポリテクセンター
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講座詳細情報
https://www.apc.jeed.go.jp/zaishoku/2025/T0861.html

※CADLUSを使用したプリント基板設計の流れを学びたい方は

 【T048 プリント基板設計技術】が最適なコースとなります。
https://www.apc.jeed.go.jp/zaishoku/2025/T0481.html